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電漿程序實驗室
指導教授: 魏大欽

研究專長

(1)高分子薄膜之電漿改質,以應用於薄膜分離及生醫工程。 (2)應用於半導體及光電工業之電漿製程。 (3)電漿製程之數值模擬及電漿診斷。 (4)應用於污染防治及能源工業之電漿技術。 (5)以高溫電漿技術製備功能性奈米粉體。

研究室位置:
工學719室
研究室分機:
4139
碩士生:
碩二:盧惟中、黃政維、邱翊庭 碩一:張舒涵、趙廷儒、廖庭郁
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本實驗室致力於電漿領域的研究,而電漿技術在各產業上也有廣泛的應用,如光電產業、半導體產業、民生化學工業、生醫材料以及汙染防治等,其技術運用在電漿內所產生的電子、離子及不帶電的氣體分子與具活性的自由基,藉由控制上述的電漿內部物種特性,可用在乾式蝕刻、鍍膜以及材料表面改質等製程。其中以材料表面具機能性之加工處理最為廣泛,主要原因為電漿處理僅對材料或產品的表面進行特性改善,對於產品並不會造成本體性質改變。

      

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